专利名称：TiAl合金表面阴极微弧等离子体电解沉积制备
CeO‑AlO复合陶瓷层的方法
专利类型：发明专利
发明人：谢发勤,王少青,吴向清申请号：CN201710800275.7申请日：20170907公开号：CN107557836A公开日：20180109
摘要：本发明涉及一种TiAl合金表面阴极微弧等离子体电解沉积制备CeO‑AlO复合陶瓷层的方法，对阴极微弧沉积预处理技术进行了改进，并首次根据PBR值理论，提出在AlO中掺杂引入低PBR值的CeO，在TiAl合金表面制备均匀、致密、稳定性好的CeO‑AlO复合耐高温耐磨陶瓷层。本发明的优点是：复合陶瓷在TiAl合金表面原位生长，结合力好；预处理技术简单、易于控制；低PBR值CeO掺杂AlO，提高了复合陶瓷层致密性和稳定性，较AlO单一成分陶瓷层有较低的摩擦系数和抗高温氧化性能。
申请人：西北工业大学
地址：710072 陕西省西安市友谊西路127号
国籍：CN
代理机构：西北工业大学专利中心
代理人：王鲜凯
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