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一种场发射用注射器状ZnO纳米结构阵列的制备方法[发明专利]

来源:知库网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:一种场发射用注射器状ZnO纳米结构阵列的制备方

专利类型:发明专利

发明人:徐峰,孙立涛,董方洲,毕恒昌,尹奎波,万能申请号:CN201010607320.5申请日:20101228公开号:CN102061498A公开日:20110518

摘要:一种场发射用注射器状ZnO纳米结构阵列的制备方法,是基于水溶液体系的两步合成法,首先采用电化学沉积方法直接在导电玻璃基底上生长ZnO纳米柱阵列;然后通过水溶液化学生长方法在原先的ZnO纳米柱端面上外延生长纳米针。本发明中的注射器状ZnO纳米结构阵列采用两步合成法制备,既保证了ZnO纳米结构阵列在导电基底上的附着强度,提高了电学传导性能,又实现了利于电子发射的尖状纳米结构的可控生长,改善了阵列结构的场发射性能。

申请人:东南大学

地址:210096 江苏省南京市玄武区四牌楼2号

国籍:CN

代理机构:南京经纬专利商标代理有限公司

代理人:李纪昌

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