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一种晶圆固定装置及晶圆清洁系统[实用新型专利]

来源:知库网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:一种晶圆固定装置及晶圆清洁系统专利类型:实用新型专利发明人:杨小龙,白雪山申请号:CN202021526559.5申请日:20200723公开号:CN212750845U公开日:20210319

摘要:本实用新型公开了一种晶圆固定装置及晶圆清洁系统,包括底座、旋转台和真空发生装置;所述旋转台可转动的设置在所述底座上;所述旋转台上设有多个连通的导气槽和凸台;所述导气槽与所述真空发生装置连通,晶圆设置在所述凸台上,所述真空发生装置通过在所述导气槽中产生吸附气流,将所述晶圆固定在所述凸台上,通过真空吸附方式将晶圆吸附在旋转台上,避免了人工的接触,从而避免晶圆发生裂片和表面被沾污,同时也能处理晶圆背面的水分,并进行收集处理,保证了晶圆避免水分干燥的全面性,通过旋转台的设置,可以提高晶圆表面的清洁率,减少了人工的操作,避免了对晶圆的接触,提高了晶圆的良率。

申请人:宁波芯健半导体有限公司

地址:315336 浙江省宁波市杭州湾新区庵东工业园区华兴地块中横路18号

国籍:CN

代理机构:广州三环专利商标代理有限公司

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