专利名称：光刻装置及方法专利类型：发明专利发明人：周畅,杨志勇,马琳琳申请号：CN201710154356.4申请日：20170315公开号：CN107966881A公开日：20180427
摘要：本发明提供了一种光刻装置及方法，所述光刻装置包括至少两套曝光装置和一套基板装置，其中：所述基板装置包括一基板台和一基板，所述基板台承载所述基板；所述至少两套曝光装置沿曝光扫描方向对称分布在所述基板上方，同时在所述基板上形成两个曝光场，对所述曝光场内基板进行曝光。
申请人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
地址：201203 上海市浦东新区张东路1525号
国籍：CN
代理机构：上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)
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