专利名称：含有吡啶环的化合物、及卤代甲基吡啶衍生物以及
四唑基肟衍生物的制造方法
专利类型：发明专利
发明人：宫崎秀和,谷中悟,坪仓史朗,杉浦忠司,野田薰,铃木显
吾
申请号：CN201410283563.6申请日：20110311公开号：CN104109150A公开日：20141022
摘要：本发明提供能够在工业上有利地合成且可用作用于制造显示杀菌活性的四唑基肟衍生物的中间体的下述含有吡啶环的化合物、以及2-取代氨基-6-卤代甲基吡啶衍生物以及四唑基肟衍生物的工业上有利的制造方法。所述含有吡啶环的化合物用式(1)表示(R表示C1-6烷氧基、C1-6烷氧基C1-6烷氧基等，R表示C1-2烷氧基羰基、乙酰基等，Z表示卤素原子、氰基等，X表示卤素原子，n为0～3中的任一整数)。
申请人：日本曹达株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京集佳知识产权代理有限公司
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